NILT纳米压印模板

NILT纳米压印模板

已经不代理NILT旗下产品,请联系其他代理商

丹麦NIL TECHNOLOGY Aps

(NILT) 公司除了提供纳米压印机外,还供应各类材质,各类功能的纳米压印模板,模片和母模,是目前重要的纳米压印模板的世界级供应商之一。其涉及的应用十分广泛,包括光电相关的如折射膜、增光膜、抗反射膜,线路网格、传感器和疏水膜HYDROPHOBIC FILM等。

其中纳米压印模板根据材质的不同分为硅质模板 (Silicon NIL Stamps),石英 QUARTZ 模板 (Fused Silica NIL Stamps),镍模片 (Nickel SHIM),聚合物模板 (Polymer NIL Stamps),PDMS 掩膜 (PDMS NIL Stamps)

NILT米压印模板可以根据客户要求,设计出符合需求的纳米/微米图形,其母模的制造通常会用电子束光刻E-BEAM LITHOGRAPHY或紫外光蚀刻UV LITHOGRAPHY,激光干涉蚀刻法几种工艺来制造。NILT能够为石英或硅晶圆模板为母模,并从中中复制出聚合物、镍、PDMS材质的模片,模板一般以硅晶圆或切割成方块交货给客户作为托底。

NILT硅质模板 (SILICON NIL STAMPS)

丹麦NILT是目前重要硅模板的顶级供应商之一,涉及的应用十分广泛,例如生物科技、蓝宝石图形化PSS。一般通过电子束E-BEAM LITHOGRAPHY, 紫外光蚀刻UV LITHOGRAPHY 或NIL 刻蚀出硅模板,模板上可根据客户需求设计纳米图形。硅NIL模板可以以硅晶圆或切割成方块交货,还可再造出聚合物模片或镍掩膜。

规格:

规格

模板材料

硅材质

模板尺寸(晶圆形状)

2, 4, 6英寸

模板尺寸(方形)

从晶圆切割的任何方形格式

模板厚度

2mm

最小横向尺寸

20 nm

宽高比

最高1:10(取决于模式)

可定制

客户指定

设计文件格式

gds,dxf,tdb

防粘

FDTS(可选)

交货时间

通常为4周

NILT熔融石英模板 (FUSED SILICA NIL STAMPS)

熔石英模板因为透明度高所以用得最多应该是在UV 纳米压印UV NIL。

规格:

规格

模板材料

used silica (Quartz)

模板尺寸(晶圆形状)

2", 4", 6"

模板尺寸(方形)

Any format cut from wafers

模板厚度

1 mm (other upon request)

最小横向尺寸

20 nm

长宽比

Up to 1:5 (pattern dependent)

设计

Customer specified

设计档案格式

gds, dxf, tdb

防粘

FDTS (optional)

交货时间

Typically 4 weeks

NILT镍模片 (NICKEL SHIM)

NILT可以从硅晶圆、聚合物或石英材质的模板中复制出镍片。镍掩膜的形状为四方或长方形,尺寸可达600mm X 60mm. 镍模片在纳米压印技术上应用甚广,包括光电相关的如增光膜、抗反射膜,在医学领域和实验室晶片LAB-ON-A-CHIP。

规格:

规格

模片材料

Nickel

硬度

Different alloys are available

模片尺寸

2", 4", and square up to 600 mm x 600 mm

模片厚度

100 um — 2 mm

最小横向尺寸

100 nm

长宽比

Up to 1:3 (pattern dependent)

设计

Customer specified

设计档案格式

gds, dxf, tdb

防粘

FDTS (optional)

交货时间

Typically 4-6 weeks

聚合物母模 (POLYMER NIL STAMPS)

NILT同样不会对图形设计作出任何限制。聚合物可以从石英或硅晶圆复制出来,一般交货时都以硅晶圆片托底。

聚合物模板的应用很广,包括折射膜、线路网格、传感器和疏水膜HYDROPHOBIC FILM。

规格:

规格

模板ID

SMSS_SIQZ_V1

模板尺寸

20 mm x 20 mm

模板材料

Silicon or Fused Silica

模板厚度

1 mm

结构尺寸

500 nm - µm

蚀刻深度

1 µm or 2 µm in Silicon. 500 nm in Fused Silica

图案字段大小

5 mm x 5 mm

交货时间

3-4 weeks

PDMS 母模 (PDMS NIL STAMPS)

PDMS的母模制造通常会用电子束E-BEAM LITHOGRAPHY,NIL蚀刻或紫外光蚀刻UV LITHOGRAPHY,可按客户需求设计纳米图形。 PDMS模片可以从石英或硅晶圆复制出来,一般交货时都以硅晶圆片托底。可应用于MICROFLUIDICS & LOC SHIMS 微流控器&实验室晶片,微流控器&实验室晶片。

规格:

规格

模板材料

PDMS

模板尺寸(晶圆形状)

Up to 6 inch round

模板厚度

1 mm (other upon request)

最小横向尺寸

20 nm

长宽比

Up to 1:3 (pattern dependent)

设计

Customer specified

设计档案格式

gds, dxf, tdb

防粘

FDTS (optional)

交货时间

Typically 4 weeks

相关推荐

《QQ》厘米秀买卖卡片方法介绍
上海365彩票

《QQ》厘米秀买卖卡片方法介绍

📅 09-28 👁️ 5350
达摩排位现状:从冷门到T0的华丽转身
365bet亚洲足球赛

达摩排位现状:从冷门到T0的华丽转身

📅 08-21 👁️ 5307
王者荣耀血王宫通关攻略:阵容推荐+操作技巧详解
正方体的物品有哪些最少10个
26365

正方体的物品有哪些最少10个

📅 10-21 👁️ 1554
光遇为什么没有声音 光遇音频设置方法大全
上海365彩票

光遇为什么没有声音 光遇音频设置方法大全

📅 08-03 👁️ 9137
p9华为哪一年出的 华为p9上市时间是哪年
365bet亚洲足球赛

p9华为哪一年出的 华为p9上市时间是哪年

📅 08-19 👁️ 3397